对于国产芯来说，“制程”二字是始终无法忽视的门槛，因此关键的光刻机设备就显得至关重要。而ASML这家高端光刻机领域的巨头也收获了国人数不尽的关注。

近日，ASML中国区总裁沈波在中国集成电路制造年会上的一些言论，让我们看到了最先进光刻机入华的曙光。

沈波称，今年下半年ASML已经开始出货最先进的传统沉浸式光刻机NXT:2000i，而该设备也很快会在中国市场上见到。

此前有媒体消息称，中芯国际已经向ASML订购了一台EUV光刻机，用于目前最先进的7nm制程研发，预计将于2019年交付。而长江存储与上海华虹半导体也分别向ASML订购了193nm沉浸式光刻机NXT:1980Di，用于存储芯片和晶圆的制造。

7nm制程的研发无疑是困难的，如联电和格罗方德已经宣布放弃7nm及更高制程工艺的研发，但ASML依然看好EUV光刻机的前景——他们计划在明后两年将EUV光刻机的产能由目前的20台提升至40台。

或许是大陆市场目前与美国持平、已经超过台湾地区，高达20%占比的销售收入给了ASML这样的信心，也或许是中国对于追赶制程工艺的决心。目前业界对于7nm以上的制程工艺研发可以概括为“没有思路”，几近停滞的现状也给了中国追赶的契机。

无论如何，如果ASML最先进的光刻机能够入华，将无疑是中国芯的曙光。