目前无论是手机处理器还是电脑处理器，7nm制程已经是最先进的工艺之一了，基于7nm制程的处理器也已经大规模量产，获得了不错的评价。而高通也已经表示将会在下一代的X60基带中采用最新的5nm制程，可以说是首款搭载5nm的产品。预计从2021年开始各大旗舰手机都将搭载5nm制程工艺的处理器，那么5nm之后会是多少制程呢？

作为制造处理器当中最核心的一个步骤，光刻显然是决定处理器好坏的重要节点，作为光刻机行业的王牌，ASML表示目前正在研发最新的光刻机，称可以进行最小3nm制程的光刻，又将处理器的制程往前大迈进了一步。目前ASML使用的先进光刻机为NXE:3400B和改进型的NXE：3400C，其中NXE：3400C采用的额是模块化设计，维护时间从传统的48小时大幅缩短至10小时。而ASML的下一代光刻机将会被称之为EXE：5000，这台光刻机是由ASML和蔡司与比利时微电子中心共同研发。

和目前所使用的光刻机相比，EXE：5000的最大特点便是采用3nm制程工艺进行芯片的光刻，而作为ASML 3nm的最大客户，包括台积电以及三星均在芯片路线图中指出了今后将会使用的3nm制造工艺，显然想要让该制程落地需要的是更为先进的光刻机。ASML表示将会在2021年推出EXE：5000的样机，同时在2023年左右开始量产，预计大家想要看到基于3nm制程的产品需要等到2024年了。