作为芯片制造的核心设备，光刻机是集成了全人类科技的结晶，光刻机的性能决定了芯片的好坏，而目前ASML应该是光刻机制造领域的第一霸主，在最新的财报会议上，ASML公布了新一代的光刻机，和目前的光刻机相比，新一代光刻机在制造效率上有着比较大的提升，可以让晶圆制造更加迅速。

目前ASML最强的光刻机，TWINSCAN NXE：3600D在这一次的财报会议上正式公布了参数和规格。ASML表示3600D光刻机可以每小时曝光160块晶圆，和上代相比曝光率提升了18%，而且相对应的匹配精度也提升至1.1nm。而目前性能最出色的3400B的精度为2nm，每小时曝光125块晶圆。当然ASML也表示目前的3400B也可以提供软件更新，从而提升光刻机的性能。此外除了EUV光刻机之外，ASML也推出了新一代的DUV光刻机，为TWINSCAN NXT：2050i，将于第四季度正式出货。

至于价格的话，官方没有公布3600D的价格，不过预计一台光刻机的售价在1.2亿美元以上，并且在2021年中旬开始交付。